虽然国内科技崛起速度很快，但是我国的芯片消耗量也是世界之最。因为我国的芯片自给率非常低，只有不足30%的水平，所以我国对于芯片进口的依赖程度非常之高，这也暴露出中国科技的一大短板。华为被断芯事件就是中国科技被现实狠狠打了一个耳光，也让中国科技彻底清醒：如果不能实现芯片自给自足，将永远被牵着鼻子走。

熟悉芯片的朋友都知道，芯片制造是由3个部分组成的，其中芯片制造的最大难点就是在加工环节，而加工环节必须要依赖于顶尖的机器，这也是中国半导体领域想要突破的最大阻碍——光刻机！

如果想要生产制造高端芯片，就必须要拥有高端光刻机。而在高端光刻机市场上，ASML公司几乎形成了垄断。中芯国际在2018年的时候就向ASML公司订购了一台EUV光刻机，希望可以实现7nm芯片的量产。花费了1.2亿美元，但至今因为美G的阻挠，ASML公司也没能按照合约履行，本该在2019年就交付，在2020年就完成调试和安装的EUV光刻机，至今还没有音讯。

如果说光刻机是最复杂的机器，一点也不夸张，就算ASML公司垄断了整个EUV光刻机市场，它也是站在35个国家以及5000多家企业的“肩膀”上才能够做到的。所以中国要自研光刻机，难度不亚于“愚公移山”。

但是骨子里刻着愚公移山精神的中国科学家是不会让国人失望的，就在前不久，中国激光巨头企业——大族激光，宣布了一个好消息：

由大族自主研发的国产光刻机已经实现了小批量的销售，而这台国产光刻机的核心元器件，有90%以上都是纯国产的。而且这台光刻机的分辨度是3μm-5μm，主要是用来进行5G基站分立器件、Micro-LED以及LED等产品制造。

值得一提的是，大族激光除了自研的光刻机已经对外销售，它在芯片封装核心设备方面也已经有了很大的突破。其中自研的切割设备以及晶圆开槽设备等的国产核心元器件的占比也已经达到了90%以上的水平。

国内半导体企业都在尽全力追赶，除了大族激光之外，上海微电子在前段时间也带来了好消息，自研的28nm光刻机也可以用来生产14nm芯片，并且自研的28nm光刻机也已经投入生产，预计在今年年底就可以交付给下游的厂商。

虽然国内半导体跟世界顶尖水平还是有差距，国产光刻机跟ASML的EUV光刻机之间也存在非常大的差距，但是这并没有让中国半导体丧失信心，中国科学家和技术人才都在尽全力追赶！不管怎么样，都应该给国内半导体企业、国内科学家和技术人才点赞！

短期来看要实现100%自研还是存在一定的难度，但是我们把时间拉长到10年、20年甚至100年，谁敢说中国半导体做不到呢？100年前也没人敢相信中国田径运动员能够冲进奥运会的决赛，但是现在我们做到了！所以，千言万语汇成一句：中国，加油！

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