我们在一些技术领域方面的缺陷是比较明显的，由于早期的发展当中，我们的起步就比较晚了，所以现在想要这些方面有所提升，也许要付出更多的努力。

在这方面最让大家头疼的其实就是芯片制造领域，我国虽然有很多的一些芯片研制能力提升，但是最主要的一个缺陷就在于光刻机的研制。

但是如果仔细的来分析中国现在的发展的话，我们缺的不仅仅是光刻机，就算现在能够买进光刻机在其他方面的欠缺也还是比较明显的。

除开主要的光刻机之外在光刻胶的发展上也是我们的短板，在芯片上的一些生产材料都是我们比较难以补上的。

光刻机是大家已经非常清楚的，另一种东西就是光刻胶，光刻胶是在芯片生产过程当中，关于一些细微图形加工的关键材料。

它和早期的照相机冲洗胶卷其实是一样的道理，由于是一种有机化合物，在被紫外线曝光之后，就会产生变化，而我国关于芯片的研制是非常有突破的，所以即使有了这一技术，也还没有无法在这方面进行补助，所以想要自主生产芯片，困难还是比较大。

有很多人觉得那既然和相机胶卷的原理一样，那么可不可以利用这样的制造技艺呢？虽然说原理一样，但是在材料利用上，他的要求是更高的，如果不能找到适合的一些东西的话，它的发展也会更加困难。

由于光刻胶的分辨率远远要高于普通的胶卷，所以它是需要用显微镜才能看清楚的，这也在制造过程当中带来了更多的难题。

除开技术之外，它的生产还涉及了专利以及保护的问题，国内的公司即使知道了它的一些配方和生产工艺，也是无法完成自主生生产的，毕竟受到了专利的保护，所以这也是我们在新品建设领域难以发展的一大原因。

即使近年来我们的发展比较有优势，但是想要获得一些更好的能力成就也还是比较困难的，我们在高端制造领域难以达到标准，想有所发展就更要克服困难。

好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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