在众多工业设计中，最难的可以说是制造手机芯片了。最近几年，因为芯片的问题，我国科技企业也频频遭遇“卡脖子”的问题，无数国人都为之担忧，不少国产厂商也开始加快布局芯片自主研发，尽管现在国产芯片自主研发已经驶入快车道，但是和国际顶尖巨头还存在着很大的差距，因为一直以来我国都没有先进的光刻机设备。

众所周知，芯片的设计研发离不开光刻机，尤其是先进制程工艺的芯片，但是全球先进光刻机市场中ASML一家独大，此前中芯国际也斥巨资购买一台先进的光刻机，然而如今因为美国的原因，ASML光刻机无法顺利进入我国，这也给我国7nm以及更先进制程工艺芯片的发展带来更加严峻的挑战，要知道我国目前能够量产的光刻机还停留在90nm阶段，比ASML光刻机落后十几年，可见差距有多大，这也表明我国加强光刻机建设迫在眉睫。

尽管中芯国际表示可以不使用光刻机就能够研发出7nm工艺，但5nm乃至更先进制程工艺芯片产品绝对离不开光刻机，如果没有光刻机就意味着我国在未来的芯片竞赛中将落后对手一步，日后就很有可能被对手欺负。

然而，近日我国传来好消息，光刻机的问题可以得到有效解决。据悉，上海微电子公司已经成功取得突破，其成功借助紫外线光源实现22nm分辨率，这推动国产光刻机的发展朝前迈进一大步，该技术一旦成熟就意味着我国22nm光刻机即将问世，这样一来将推动国产芯片实现进一步的发展，同时也给其他光刻机制造商带来信心，有助于推动更多厂商携手努力共同建设国产光刻机，提高我国在国际市场上的竞争力。

虽说在光刻机领域我国取得了新的进展，但是目前国内光刻机生产所需要的零部件依然需要从国外市场进口，很显然在光刻机的生产过程中，我国对国外的依赖还是比较大的。不过，不管多难，我国企业都不能放弃，光刻机的自主研发是一个漫长的过程，日后还需要不断努力，争取将核心技术和供应链全都掌握在自己手中，期待日后国产光刻机能够在国际市场中取得更好的成绩，让国产芯片在全球市场立于不败之地！

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