光刻机作为芯片制造领域必要的一项高端设备之一，也是制约我国当前芯片制造技术发展的一大关键性因素。

在当前国际市场上，具备完善的光刻机制造技术的国家当属荷兰，该国境内的ASML长期在光刻机领域占据垄断地位，我国企业也多次从荷兰进口相关光刻机设备。然而在美国对我国芯片发展进行阻断的背景下，为了保证该领域的国产化，我国也在努力推进国产光刻机的发展。

那么我国国产光刻机究竟应该如何破局呢？根据了解我国当前已经投入了3387亿资金对其进行扶持，中企一个月的时间就能够产出两台。

台积电作为我国芯片供应的一大主体，其芯片生产一定程度上也依赖于美国技术，因此在华为与台积电想要达成合作之际，美国制定相关政策妨碍两大企业的合作，对台积电发出了威胁。

台积电纠结再三之后，最终还是只能向美国妥协，失去了华为这一大客户，与此同时，我国中芯国际向华为递出了橄榄枝，愿意为华为提供相关芯片供应。

然而中芯国际与台积电相比，在芯片制造工艺上还存在一定差距，不具备当前国际普遍使用的5纳米芯片的制造工艺，其中光刻机的缺乏是一种一大原因。

为此中芯国际通过与荷兰ASML公司协商，购买了该企业较为先进的一款极紫外光刻机，以实现7纳米芯片的量产。

然而由于多方面因素，这一光刻机久久未能交货，甚至已然超过了约定的交货日期，虽然在今年4月初，ASML公司也向中芯国际交付了一台光刻机，但是并不是中芯国际当前最迫切需要的款型。

在此艰难背景下，我国安芯半导体公司传来捷报，该企业生产的首台光刻机已经城市交付相关企业，并且投入了其生产线运营之中，相比较荷兰的光刻机，安芯企业还有很多问题需要进一步完善，但是却是我国自主研发的第一款光刻机，代表着我国在该领域迈出的重要一步！

好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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